Runway Gen-2是一款由RunwayML开发的机器学习创作平台,它提供了一系列易于使用的工具和界面,使用户能够训练、部署和交互式地操纵各种机器学习模型。该平台支持多种应用场景,包括图像生成、语音合成、自然语言处理等,并且可以与其他软件集成,例如Adobe Creative Suite、Unity和TouchDesigner等,为用户提供更广泛的应用程序开发能力,Runway Research官网入口网址
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