Runway Gen-2是一款由RunwayML开发的机器学习创作平台，它提供了一系列易于使用的工具和界面，使用户能够训练、部署和交互式地操纵各种机器学习模型。该平台支持多种应用场景，包括图像生成、语音合成、自然语言处理等，并且可以与其他软件集成，例如Adobe Creative Suite、Unity和TouchDesigner等，为用户提供更广泛的应用程序开发能力，Runway Research官网入口网址