EUV光刻厂？芯片制造与光刻的工程技术与科学原理介绍 | 陈经

AIGC动态欢迎阅读

原标题：EUV光刻厂？芯片制造与光刻的工程技术与科学原理介绍 | 陈经

关键字：光刻,光源,芯片,晶体管,加速器

文章来源：人工智能学家

内容字数：18711字

内容摘要：近日清华提出的SSMB-EUV光源技术忽然引发了公众极大的兴趣。一个说法是，中国可以建加速器产生EUV光源，不同频率的光源可以给28nm、14nm、7nm、5nm等多种芯片制程使用，用“光刻厂”替代ASML一台台的EUV光刻机，以出人意料的创新思维打破美国封锁。这个设想“通俗易懂”，感觉先进的国产光刻机一下有希望了。公众对SSMB-EUV这种很难懂的同步辐射光源产生兴趣，根本原因是希望突破美国技术…

原文链接：点此阅读原文：EUV光刻厂？芯片制造与光刻的工程技术与科学原理介绍 | 陈经

联系作者

文章来源：人工智能学家

作者微信：AItists

作者简介：致力成为权威的人工智能科技媒体和前沿科技研究机构