高端DUV光刻机已获许可

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动态标题：高端DUV光刻机已获许可

关键字：报告,光刻,管制,,许可证

文章来源：人工智能学家

内容字数：1439字

内容摘要：来源：EETOP今年6月30日，荷兰正式宣布了针对先进半导体设备出口的新规。根据规定，荷兰将要求相关企业在出口先进产品之前须获得许可证，否则不得出口。规定于今年9月1日生效。荷兰最新芯片出口管制措施今天生效。不过，荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）向《中国日报》确认，目前阿斯麦已向荷兰提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请。“荷兰也…

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